双频淬火设备-稳定性能好2020-12-30

  对试样的要求:试样可以是块状或粉末颗粒,在真空双频淬火设备中应能保持稳定;含有水分的试样应先烘干除去水分,或使用临界点干燥设备进行处理;表面受到污染的试样,要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗,然后烘干;新断开的断口或断面,一般不需要进行处理,以免破坏断口或表面的结构状态;有些试样的表面、断口只有进行适当的侵蚀,才能暴露某些结构细节,因此在侵蚀后应将表面或断口清洗干净,然后烘干;对磁性试样要预先去磁,以免观察时电子束受到磁场的影响;试样大小要适合仪器专用样品座的尺寸,不能过大,样品座尺寸各仪器不均相同,一般小的样品座直径,大的样品座直径,以分别用来放置不同大小的试样,样品的高度也有一定的限制。

双频淬火设备

  双频淬火设备一种是真空镀膜,另一种是离子溅射镀膜。离子溅射镀膜的原理是:在低气压系绕中,气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作用下电离成正离子和电子,正离子飞向阴极,电子飞向阳极,两电极间形成光放电,在辉光放电过程中,具有一定动量的正离子撞击阴极,使阴极表面的原子被逐出,称为溅射。如果阴极表面为用于镀膜的材料  ,需要镀膜的样品放在作为阳极的样品台上,则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上,形成一定厚度的镀膜层。离子溅射时常用的气体为惰性气体氩,要求不高时,也可以用空气,离子溅射镀膜与真空镀膜相比,其主要优点是:装置结构简单,使用方便,溅射一次只需几分钟,消耗贵金属少,每次仅为几毫克;对同一种镀膜材料,离子溅射镀膜质量好,能形成颗粒更细更致密、更均匀和附着力更强的膜。

双频淬火设备

  双频淬火设备的原理是:在低气压系绕中,气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作用下电离成正离子和电子,正离子飞向阴极,电子飞向阳极,两电极间形成辉光放电,在辉光放电过程中,具有一定动量的正离子撞击阴极,使阴极表面的原子被逐出,称为溅射。如果阴极表面为用于镀膜的材料,需要镀膜的样品放在作为阳极的样品台上,则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上,形成一定厚度的镀膜层。离子溅射时常用的气体为惰性气体氩,要求不高时,也可以用空气,气压约。离子溅射镀膜与真空镀膜相比,其主要优点是:装置结构简单,使用方便,溅射一次只需几分钟,消耗贵金属少,每次仅为几毫克;对同一种镀膜材料,离子溅射镀膜质量好,能形成颗粒更细、更致密、更均匀和附着力更强的膜。

双频淬火设备

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